Siliconización

Curado UV con oxígeno reducido

Las unidades UV que funcionan en condiciones de oxígeno reducido están abriendo el camino al curado UV del futuro. En estos sistemas, el oxígeno atmosférico de la cámara de reacción se sustituye por nitrógeno. Las ventajas de la reducción de oxígeno son una considerable reducción del ozono y de los olores, así como un menor amarilleamiento. Además, el curado de tintas, barnices y lacas UV es mucho más rápido.

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Las principales características de estas unidades UV son las siguientes:

La carcasa de la lámpara UV está instalada encima de la cámara de inertización cerrada.
La radiación UV dirigida hacia el sustrato pasa a través de una pantalla de cuarzo situada debajo de la carcasa de la lámpara UV, en la parte superior de la cámara de inertización.
Gestión del calor mediante una pantalla inferior refrigerada por agua situada debajo de la banda.
Las boquillas de entrada y salida de nitrógeno controlan las condiciones de inertización. El consumo de nitrógeno es extremadamente bajo, ya que sólo debe reponerse el nitrógeno perdido a través de las aberturas de entrada y salida.
El nivel de oxígeno restante se controla continuamente para garantizar unas condiciones de funcionamiento óptimas.

Unidad UV inerte para reticular revestimientos desmoldeantes de silicona

Versión BLK
Potencia máx. de la lámpara 200 W/cm
Control continuo de la lámpara (ELC) en función de la velocidad de la banda* Contenido de oxígeno residual inferior a 40 ppm
Pantallas de cuarzo de cambio rápido
Se puede abrir rápidamente para mantenimiento o entrada de banda
Modo de espera para reducir el consumo de nitrógeno

Oxygen-reduced UV systems for industrial applications