x

Inertyzacja

Systemy UV o obniżonej zawartości tlenu do zastosowań przemysłowych

Systemy o obniżonej zawartości tlenu to kolejna zaawansowana forma utwardzania promieniami UV. Działają one z azotem lub dwutlenkiem węgla. Do oddzielenia zespołu lampy UV od komory reakcyjnej zwykle stosuje się ekrany ze szkła kwarcowego.

Jednostka UV działająca w warunkach zmniejszonej zawartości tlenu powoduje znacznie szybszą reakcję, tzn. przy równych prędkościach produkcji potrzeba mniej energii.

Zastosowania utwardzania UV przy zmniejszonej zawartości tlenu:

  • Podłogi PCV
  • Części samochodowe
  • Opakowania do żywności
  • Fantazyjne papiery
  • Folie, papiery termiczne, komponenty aluminiowe, silikon

POBIERZ ULOTKĘ

Zastosowania utwardzania UV przy zmniejszonej zawartości tlenu:

  • Redukcja kosztów: Większe prędkości produkcji i zapotrzebowanie na mniejszą liczbę lamp niż w przypadku konwencjonalnego utwardzania skutkują niższymi kosztami energii, redukcją wymaganych części zamiennych (lamp i reflektorów), krótszym czasem przestoju urządzenia, a także mniejszymi wymaganiami przestrzennymi. Dodatkową korzyścią jest niskie obciążenie termiczne podłoża, ponieważ praca przy zmniejszonej zawartości tlenu umożliwia osiągnięcie doskonałych wyników utwardzania przy mniejszej energii UV.
  • Zmniejszenie zawartości fotoinicjatorów: Systemy o obniżonej zawartości tlenu wymagają mniej fotoinicjatorów, które są częściowo odpowiedzialne za wytwarzanie niepożądanego zapachu i żółknięcie.
  • Lepsze wyniki utwardzania: Utwardzanie w atmosferze z obniżoną zawartością tlenu powodują, że powłoki z farb i lakierów mogą być odporne na chemikalia i zarysowania