x

Silikonizacja – utwardzanie promieniowaniem UV w warunkach obniżonej zawartości tlenu

Systemy UV działające w warunkach obniżonego stężenia tlenu umożliwiają utwardzanie promieniowaniem UV w kontrolowanej atmosferze. Stężenie tlenu w komorze reakcyjnej zmniejsza się poprzez doprowadzanie azotu. Niższe stężenie tlenu może ograniczyć hamowanie tlenowe podczas utwardzania promieniowaniem UV, a tym samym wspomóc utwardzanie farb, lakierów i powłok. W zależności od zastosowania można również ograniczyć niepożądane skutki, takie jak powstawanie nieprzyjemnego zapachu lub żółknięcie.

Główne cechy tych urządzeń UV są następujące:

  • Obudowa lampy UV jest zamontowana nad zamkniętą komorą inertyzacyjną.
  • Promieniowanie UV skierowane na podłoże przechodzi przez ekran kwarcowy umieszczony pod obudową lampy UV w górnej części komory inertyzacyjnej.
  • Odprowadzanie ciepła odbywa się za pomocą chłodzonej wodą osłony umieszczonej pod wstęgą.
  • Dysze wlotowe i wylotowe azotu kontrolują warunki atmosfery obojętnej. Zużycie azotu jest wyjątkowo niskie, ponieważ uzupełniać należy jedynie azot utracony przez otwory wlotowe i wylotowe.
  • Poziom pozostałego tlenu jest stale monitorowany w celu zapewnienia optymalnych warunków pracy.

Moduł UV w atmosferze obojętnej do sieciowania silikonowych powłok antyadhezyjnych

  • Wersja BLK
  • Moc lampy maks. 200 W/cm
  • Bezstopniowa kontrola lampy (ELC) w zależności od prędkości wstęgi
  • Resztkowa zawartość tlenu poniżej 40 ppm
  • Szybkowymienne ekrany kwarcowe
  • Można je szybko otworzyć w celu konserwacji lub wyjęcia wstęgi
  • Tryb czuwania w celu zmniejszenia zużycia azotu